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申请/专利权人：日东电工株式会社
摘要：提供适于抑制透明导电层的由加热所引起的电阻值上升的透明导电性薄膜的制造方法。本发明的透明导电性薄膜的制造方法为制造沿厚度方向H依次具备长条的基材薄膜10和透明导电层20的透明导电性薄膜X的方法。该制造方法包括成膜工序。成膜工序中，通过使用包含非活性气体和反应性气体的混合气体的反应性溅射法，在减压气氛下在基材薄膜10上形成透明导电层20。成膜工序包括：在减压气氛中，在水分压降低后使反应性气体相对于非活性气体的混合比例降低，和或在水分压上升后使混合比例上升。
主权项：1.一种透明导电性薄膜的制造方法，所述透明导电性薄膜沿厚度方向依次具备长条的基材薄膜和透明导电层，所述制造方法包括如下的成膜工序：通过使用包含非活性气体和反应性气体的混合气体的反应性溅射法，在减压气氛下在基材薄膜上形成透明导电层，所述成膜工序包括：在所述减压气氛中，在水分压降低后使所述反应性气体相对于所述非活性气体的混合比例降低，和或在所述水分压上升后使所述混合比例上升。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日东电工株式会社 透明导电性薄膜的制造方法
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