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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：公开了含金属光致抗蚀剂的光致抗蚀剂再加工。可以使用热处理通过将衬底暴露于升高的温度和蚀刻气体来完成再加工。还可以使用湿法处理将衬底暴露于无机酸性溶液中来完成再加工。再加工后，可以通过暴露于高温、等离子体或湿法清洁来清除衬底上的残留物或其他污染物。
主权项：1.一种去除含金属抗蚀剂的方法，所述方法包括：在处理室中在半导体衬底的底层上提供含金属抗蚀剂；以及在第一高温下将所述含金属抗蚀剂暴露于包含卤化物的蚀刻气体以去除所述含金属抗蚀剂。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 含金属光致抗蚀剂的再加工
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