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分析装置 

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申请/专利权人:古野电气株式会社

摘要:本申请提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。分析装置1具备:比色皿台3,通过将比色皿2的列以环状配置而成;驱动部4,使比色皿的列旋转;测光部5,对经过测光位置P的各比色皿照射光,对来自各比色皿的出射光进行测光;分析部75,基于测光数据D1对比色皿的收容物进行分析;可测定区域检测部72,在被照射区域R1之中,将出射光的变化量为规定变化量以下的比色皿的区域检测为可测定区域R2;以及基准定时设定部73,将可测定区域中包含的第1基准点P1经过测光位置的时刻,分别设定为用于确定在分析中使用的分析对象区域R4的基准定时。

主权项:1.一种分析装置,具备:比色皿台,通过将比色皿的列以环状配置而成;驱动部,使所述比色皿的列沿环状方向反复地间歇旋转;测光部,向所述间歇旋转的期间中经过测光位置的各比色皿照射光,对来自经过该测光位置的各比色皿的被照射区域的出射光进行测光;分析部,基于所述测光而得到的测光数据,对所述比色皿的收容物进行分析;可测定区域检测部,在所述各比色皿的所述被照射区域之中,将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量为规定变化量以下的所述比色皿的区域,检测为所述各比色皿各自的可测定区域;基准定时设定部,将所述各比色皿的可测定区域中包含的第1基准点经过所述测光位置的时刻,分别设定为用于确定在所述各比色皿的所述分析中使用的分析对象区域的基准定时;狭缝压板,设于所述比色皿台,包括与所述各比色皿对应地配置的各狭缝;以及传感器,对所述狭缝进行检测,在所述传感器检测到所述各狭缝的第1端时,与该狭缝对应的所述比色皿的所述第1基准点位于所述测光位置。

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权利要求:

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