龙图腾网恭喜广州方邦电子股份有限公司申请的专利一种散射膜及电子设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN210535827U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2020-05-15发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：201922121581.5，技术领域涉及：H01Q15/02(20060101)；该实用新型一种散射膜及电子设备是由苏陟;高强设计研发完成，并于2019-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种散射膜及电子设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开一种散射膜及电子设备，散射膜包括沿堆叠方向依次堆叠的散射层、阻抗渐变层和保护层，散射层设置有可供电磁波通过的散射结构，以使电磁波通过散射结构后向四周发散，增大电磁波发射的空间范围，从而实现电磁波的发散功能，尽可能避免通信盲区。通过在散射层和保护层之间设置阻抗渐变层，阻抗渐变层沿堆叠方向上的阻抗由散射结构的阻抗向保护层的阻抗渐变，消除了散射结构和保护层分界面的阻抗突变，降低电磁波穿过散射膜的过程中的能量损耗，提高信号传播的距离和传输信号的质量。

本实用新型一种散射膜及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种散射膜，其特征在于，包括沿堆叠方向依次堆叠的散射层、阻抗渐变层和保护层；所述散射层设置有可供电磁波通过的散射结构，以使电磁波通过所述散射结构后向四周发散；所述散射结构的阻抗为第一阻抗值，所述保护层的阻抗为第二阻抗值，所述阻抗渐变层沿堆叠方向上的阻抗由第一阻抗值向第二阻抗值渐变。

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