龙图腾网恭喜北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体加工腔室及设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN210805697U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2020-06-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：201921971407.3，技术领域涉及：H01J37/32(20060101)；该实用新型半导体加工腔室及设备是由慕晓航;钟结实;王凯设计研发完成，并于2019-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体加工腔室及设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种半导体加工腔室，包括能够选择性连通的第一腔室和第二腔室，还包括：压力测量器，安装在第一腔室与第二腔室之间，用于测量所述第一腔室与第二腔室之间的压力差值；第一压力控制器，设置在第一腔室的进气侧，用于根据所述压力差值增加所述第一腔室内的压力；第二压力控制器，设置在所述第一腔室的排气侧，用于根据所述压力差值降低所述第一腔室的压力。应用本实用新型可以实现对两个腔室之间压力差的精确控制，减少将工件从第一腔室转移至第二腔室过程中由于两个腔室之间的压差引起的气流扰动，避免在第一腔室进行工艺反应的工艺副产物颗粒附着在晶圆表面，从而可以减少晶圆表面的颗粒数量、提高晶圆表面质量。

本实用新型半导体加工腔室及设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体加工腔室，包括能够选择性连通的第一腔室和第二腔室，其特征在于，还包括：压力测量器，安装在第一腔室与第二腔室之间，用于测量所述第一腔室与第二腔室之间的压力差值；第一压力控制器，设置在第一腔室的进气侧，用于根据所述压力差值增加所述第一腔室内的压力；第二压力控制器，设置在所述第一腔室的排气侧，用于根据所述压力差值降低所述第一腔室的压力。

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