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恭喜华中科技大学"一种新型双层分数槽集中绕组"专利获国家实用新型专利权

龙图腾网恭喜华中科技大学申请的专利一种新型双层分数槽集中绕组获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN210806890U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2020-06-19发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:201922003834.9,技术领域涉及:H02K3/28(20060101);该实用新型一种新型双层分数槽集中绕组是由杨凯;胡林伟;徐百川;李天乐;余文毅;徐蕴镠;孙宋君设计研发完成,并于2019-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

一种新型双层分数槽集中绕组在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种新型双层分数槽集中绕组,该集中绕组的任一相位的其中一层绕组的正相带槽位包括第一槽位和第二槽位,该集中绕组的该任一相位的其中一层绕组的负相带槽位包括第三槽位,该集中绕组的该任一相位的另一层绕组的正相带槽位包括第四槽位,该集中绕组的该任一相位的该另一层绕组的负相带槽位包括第五槽位和第六槽位;其中,第一至第六槽位分别通过三相对称双层绕组的该任一相位的该其中一层绕组的正相带槽位、负相带槽位,三相对称双层绕组的该任一相位的该另一层绕组的正相带槽位、负相带槽位,以及三相对称双层绕组的槽位相位图变换得到,使得其极槽配合更加合理,从而使得集中绕组能通过抑制奇数对极磁动势谐波绕组系数,达到抑制相应磁动势谐波幅值的目的。

本实用新型一种新型双层分数槽集中绕组在权利要求书中公布了:1.一种新型双层分数槽集中绕组,其特征在于,所述集中绕组的任一相位的其中一层绕组的正相带槽位包括第一槽位和第二槽位,其中,所述第一槽位为三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的正相带槽位,所述第二槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的正相带槽位沿槽位相位图的正方向的后一个槽位;所述集中绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的负相带槽位包括第三槽位,其中,所述第三槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述其中一层绕组的负相带槽位沿槽位相位图的正方向删除第一个槽位;所述集中绕组的所述任一相位的另一层绕组的正相带槽位包括第四槽位,其中,所述第四槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的正相带槽位沿槽位相位图的正方向删除最后一个槽位;所述集中绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位包括第五槽位和第六槽位,其中,所述第五槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位,所述第六槽位为所述三相对称双层绕组的所述任一相位的所述另一层绕组的负相带槽位沿槽位相位图的正方向的后一个槽位。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人华中科技大学,其通讯地址为:430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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