龙图腾网恭喜JSR株式会社申请的专利具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN107073516B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2020-09-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201580048538.2，技术领域涉及：B05D3/06(20060101)；该发明授权具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件是由浜口仁;田中健朗;大喜多健三;栗山敬祐设计研发完成，并于2015-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件在说明书摘要公布了：本发明涉及一种具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件，所述构造体的制造方法包括下述步骤i及ii，所述构造体具有相对于下述步骤i中获得的涂膜的膜厚而薄5％以上且小于90％的膜厚的凹图案。i使用包含具有酸解离性基的聚合体及酸产生剂的树脂组合物，在构造体的非平坦面上形成涂膜的步骤；以及ii通过对所述涂膜的一部分的既定部分进行放射线照射而形成凹部的步骤。本发明可在具有非平坦面的构造体上容易形成所需的凹图案，通过使用具有该凹图案的构造体，可防止导电膜形成用组合物的润湿扩展或渗透，可容易形成高精细且对具有非平坦面的构造体的密合性优异的导电膜。

本发明授权具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件在权利要求书中公布了：1.一种构造体的制造方法，其包括下述步骤i及ii，所述构造体具有相对于下述步骤i中获得的涂膜的膜厚而薄5％以上且小于90％的膜厚的凹图案；i使用包含具有酸解离性基的聚合体、溶剂及酸产生剂的树脂组合物，在构造体的非平坦面上形成涂膜的步骤；ii通过对所述涂膜的一部分的既定部分进行放射线照射而形成凹部的步骤；所述酸解离性基具有选自由下述式1-1及式1-2所表示的基团所组成的群组中的至少一种基团，相对于所述树脂组合物的除所述溶剂以外的成分100质量份，所述溶剂的含量为400质量份～1000质量份， 式1-1及式1-2中，R1及R2分别独立地表示氢原子或甲基，Rf独立地表示具有氟原子的有机基；＊表示键结部位。

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