龙图腾网恭喜中国地质大学(武汉)申请的专利基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜、FP腔光纤声传感器获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN211527597U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2020-09-18发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202020069572.6，技术领域涉及：G01H9/00(20060101)；该实用新型基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜、FP腔光纤声传感器是由周俐娜;江致兴;刘滕设计研发完成，并于2020-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜、FP腔光纤声传感器在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜，包括软膜和嵌入软膜内部的介质硬膜，所述软膜的直径大于介质硬膜的直径，所述软膜为由PDMS制成的橡胶膜或硅胶膜，所述介质硬膜包括若干第一介质层和若干第二介质层，所述第一介质层的折射率大于第二介质层的折射率，所述第一介质层和第二介质层由下至上依次交替层叠。本实用新型还提供一种FP腔光纤声传感器，利用该声传感器收集透射光进行解调时，由于薄膜工艺使FP腔两个腔面的反射率接近99％，因此透射光谱为锐利的梳状谱线，此时，接收透射光，通过对光信号解调得到声压信号。本实用新型制作出的敏感膜外周形变量大,光纤模场直径范围内区域几乎无形变且反射率高。

本实用新型基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜、FP腔光纤声传感器在权利要求书中公布了：1.一种基于MEMS工艺的内嵌式双层压力敏感膜，其特征在于，包括软膜和嵌入软膜内部的介质硬膜，所述软膜的直径大于介质硬膜的直径，使得软膜和介质硬膜形成内嵌式结构，所述介质硬膜包括若干第一介质层和若干第二介质层，所述第一介质层的折射率大于第二介质层的折射率，所述第一介质层和第二介质层由下至上依次交替层叠。

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