深圳市瑞昌星科技有限公司杨桂林获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市瑞昌星科技有限公司申请的专利一种高缓冲性的高分子覆型离型膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN219727492U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2023-09-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202320499589.9，技术领域涉及：B32B27/28；该实用新型一种高缓冲性的高分子覆型离型膜是由杨桂林;吴文德;蔡高明;胡梦凡;程喜燕;余保华设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高缓冲性的高分子覆型离型膜在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种高缓冲性的高分子覆型离型膜，其特征在于：覆型离型膜由依次叠排的第一离型层、第一纸基层、缓冲层、第二纸基层、第二离型层构成；缓冲层为编织结构薄膜层；缓冲层为聚酰亚胺层或PET层；通过将缓冲层设置为编织结构，并在缓冲层的两面分别设置纸基层，利用纸基层有效提升覆型离型膜的覆型作用，且缓冲层材料的选用及纸基层的使用，能够有效防止压合溢胶问题产生，纸基层还能够起到粘结表层离型层与缓冲层的作用，使得整体膜层具备良好的缓冲性能，且具备自身良好的约束作用，有效防止了压合溢胶问题。
本实用新型一种高缓冲性的高分子覆型离型膜在权利要求书中公布了：1.一种高缓冲性的高分子覆型离型膜，其特征在于：所述覆型离型膜由依次叠排的第一离型层、第一纸基层、缓冲层、第二纸基层、第二离型层构成；所述缓冲层为编织结构薄膜层；所述缓冲层为聚酰亚胺层或PET层。
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