恭喜华邦电子股份有限公司陈达获国家专利权
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龙图腾网恭喜华邦电子股份有限公司申请的专利图案化的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113539796B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2023-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110291995.1，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权图案化的方法是由陈达设计研发完成，并于2021-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案化的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种图案化的方法，包括：提供条纹层，其具有交替排列的多个A条与交替配置在所述A条之间的多个B条与多个C条；在条纹层上形成具有第一开口的第一掩膜层；移除外露于第一开口的A条与B条；在C条的侧壁与经蚀刻的B条的侧壁上分别形成多个第一间隙壁；在第一间隙壁的侧壁上分别形成多个第二间隙壁；在条纹层上形成具有第二开口的第二掩膜层；移除外露在第二开口的A条与C条；在B条的侧壁与第二间隙壁的侧壁上分别形成多个第三间隙壁；在第三间隙壁的侧壁上分别形成多个第四间隙壁；以及移除A条、第一间隙壁以及第三间隙壁以形成图案层。
本发明授权图案化的方法在权利要求书中公布了：1.一种图案化的方法，包括：在目标层上依序形成硬掩膜层与条纹层，其中所述条纹层包括多个A条与交替配置在所述A条之间的多个B条与多个C条；在所述条纹层上形成具有第一开口的第一掩膜层；移除外露于所述第一开口的所述A条与所述B条；在移除所述第一掩膜层之后，在所述C条的侧壁与经蚀刻的B条的侧壁上分别形成多个第一间隙壁；在所述第一间隙壁的侧壁上分别形成多个第二间隙壁；在所述条纹层上形成具有第二开口的第二掩膜层；移除外露于所述第二开口的所述A条与所述C条；在移除所述第二掩膜层之后，在所述B条的侧壁与所述第二间隙壁的侧壁上分别形成多个第三间隙壁；在所述第三间隙壁的侧壁上分别形成多个第四间隙壁；以及移除所述A条、所述第一间隙壁以及所述第三间隙壁以形成图案层，所述图案层暴露出所述硬掩膜层的顶面。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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