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龙图腾网恭喜重庆大学申请的专利一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115807257B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2023-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211018142.1，技术领域涉及：C25D21/12；该发明授权一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法是由郑国灿;唐金晶;周楷;刘作华;陶长元;刘仁龙;李放;秦世江;罗尧设计研发完成，并于2022-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法，包括以下步骤：1对微弧陶瓷氧化槽液进行实时取样，得到待测溶液；2利用离子源对待测溶液分子进行电离，将得到的离子汇聚成离子束，输入到高分辨质谱仪中；3利用内置质量分析器对离子束进行质量分析，得到待测溶液中微弧陶瓷氧化槽液各组分的特征离子及其质荷比，并输入到电镀过程动态监测模块中；4所述电镀过程动态监测模块将待测溶液中微弧陶瓷氧化槽液各组分的特征离子及其质荷比输入到电镀过程动态监测模型中，得到微弧陶瓷氧化槽液各组分实时浓度。对微弧陶瓷氧化电镀过程进行动态监测，为微弧陶瓷氧化生产过程提供了技术支撑。

本发明授权一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法在权利要求书中公布了：1.一种微弧陶瓷氧化电镀过程动态监测方法，其特征在于，包括以下步骤：1对微弧陶瓷氧化电镀过程中的微弧陶瓷氧化槽液进行实时取样，并进行前处理，得到待测溶液；2利用离子源对待测溶液分子进行电离，并将电离得到的粒子输入到高分辨质谱仪中；3所述高分辨质谱仪利用内置质量分析器对离子束进行质量分析，得到待测溶液中微弧陶瓷氧化槽液各组分的特征离子及其响应强度，并输入到存储有电镀过程动态监测模型的电镀过程动态监测模块中；4所述电镀过程动态监测模块将待测溶液中微弧陶瓷氧化槽液各组分的特征离子及其响应强度输入到电镀过程动态监测模型中，得到微弧陶瓷氧化槽液各组分实时浓度，以反应微弧陶瓷氧化电镀过程中的实时状态；所述微弧陶瓷氧化槽液的组分包括六偏磷酸钠、偏钒酸钠、钼酸钠、钨酸钠、硅酸钠；所述六偏磷酸钠的特征离子包括六偏磷酸根离子P6O186-；所述偏钒酸钠的特征离子包括偏钒酸根离子VO3-；所述钼酸钠的特征离子包括钼酸根离子MoO42-；所述钨酸钠的特征离子包括钨酸根离子WO42-；所述硅酸钠的特征离子包括硅酸根离子SiO32-；所述电镀过程动态监测模型存储有微弧陶瓷氧化槽液各组分特征离子响应强度与微弧陶瓷氧化槽液各组分实时浓度的线性关系；所述微弧陶瓷氧化槽液各组分特征离子响应强度与微弧陶瓷氧化槽液各组分实时浓度的线性关系分别如下所示：y1＝617.62x1+7150；1y2＝3862x2+39540；2y3＝806.62x3+2750.3；3y4＝596.27x4+4537.4；4y5＝995.4x5+27247；5式中，y1、y2、y3、y4、y5分别表示六偏磷酸钠特征离子、偏钒酸钠特征离子、钼酸钠特征离子、钨酸钠特征离子、硅酸钠特征离子的响应强度；x1、x2、x3、x4、x5分别表示微弧陶瓷氧化槽液中六偏磷酸钠、偏钒酸钠、钼酸钠、钨酸钠、硅酸钠的实时浓度；六偏磷酸钠、偏钒酸钠、钼酸钠、钨酸钠、硅酸钠实时浓度的单位为mgL。

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