龙图腾网恭喜深圳市麓邦技术有限公司申请的专利匀光元件的制备方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113655652B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-05-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110854787.8，技术领域涉及：G02F1/1334；该发明授权匀光元件的制备方法及系统是由代林茂;黄晖辉;杨阳;刘新阳;李晓春设计研发完成，并于2021-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本匀光元件的制备方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及光学技术领域，公开一种匀光元件的制备方法及系统，以提高匀光效果及制作效率。方法包括：确定目标光斑形状；随机将目标光斑的轮廓缩小成不同比例的微结构；将各微结构随机拼接以覆盖匀光元件的有效区域；确定相同数量的随机F#数，建立各微结构与随机F#数之间一一对应的映射关系；遍历各微结构，逐一确定各微结构中随机F#数所对应的偏振环之间的间隔和各偏振环的偏振方向，根据偏振方向与灰度之间的映射关系得到各微结构的灰度图像，将各灰度图像拼接得到匀光元件有效区域整体的灰度图像；以激光直写的方式，根据偏振方向与灰度之间的映射关系将整体的灰度图像写入匀光元件的有效区域。

本发明授权匀光元件的制备方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种匀光元件的制备方法，其特征在于，包括：确定匀光元件整体显示的目标光斑形状；随机将所述目标光斑的轮廓缩小成至少两个不同比例的微结构；将各所述微结构随机拼接以覆盖所述匀光元件的有效区域；根据所述匀光元件的有效区域所拼接的所述微结构的数量，确定相同数量的随机F#数，建立各所述微结构与所述随机F#数之间一一对应的映射关系；其中，所述F#数为焦孔比；遍历各所述微结构，逐一确定各所述微结构中随机F#数所对应的偏振环之间的间隔和各偏振环的偏振方向，根据偏振方向与灰度之间的映射关系得到各所述微结构的灰度图像，将各所述灰度图像拼接得到所述匀光元件有效区域整体的灰度图像；以激光直写的方式，根据所述偏振方向与灰度之间的映射关系将所述整体的灰度图像写入所述匀光元件的有效区域，所述匀光元件的有效区域设有基底、液晶聚合物层和对入射光偏振方向敏感的取向层。

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