钰邦科技股份有限公司林杰获国家专利权
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龙图腾网获悉钰邦科技股份有限公司申请的专利电容器单元及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113410058B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-07-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010182786.9，技术领域涉及：H01G9/00；该发明授权电容器单元及其制造方法是由林杰设计研发完成，并于2020-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本电容器单元及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种电容器单元及其制造方法，电容器单元的制造方法包括：提供一金属箔片，金属箔片的外表面上形成有一氧化层。形成一围绕状阻隔层于氧化层上，围绕状阻隔层围绕地形成在氧化层的一外表面上，以将氧化层的外表面划分成彼此分离的一第一部分外表面以及一第二部分外表面。于氧化层的第二部分外表面上形成一打底层，以部分地包覆氧化层。浸泡打底层于包含碱类与酸类的一化成液中。干燥打底层，以于打底层上形成一修补层。形成一导电高分子层于修补层上。形成一导电胶层于导电高分子层上，导电胶层包括一银胶层。
本发明授权电容器单元及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种电容器单元的制造方法，其特征在于，所述电容器单元的制造方法包括：提供一金属箔片，所述金属箔片的外表面上形成有一氧化层；形成一围绕状阻隔层于所述氧化层上，所述围绕状阻隔层围绕地形成在所述氧化层的一外表面上，以将所述氧化层的所述外表面划分成彼此分离的一第一部分外表面以及一第二部分外表面；于所述氧化层的所述第二部分外表面上形成一打底层，以部分地包覆所述氧化层，其中，所述打底层的材料为化学聚合法形成的聚二氧乙基噻吩、自掺杂聚二氧乙基噻吩、聚二氧乙基噻吩：聚苯乙烯磺酸高分子复合物或其组合物；浸泡所述打底层于一化成液中，所述化成液包含一碱类与一酸类；干燥所述打底层，以于所述打底层上形成一修补层；以及形成一导电高分子层于所述修补层上；形成一导电胶层于所述导电高分子层上，所述导电胶层包括一银胶层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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