京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司朱友勤获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利模具及其制备方法、转印方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113066948B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-07-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110289194.1，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权模具及其制备方法、转印方法是由朱友勤;李东;陈卓设计研发完成，并于2021-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本模具及其制备方法、转印方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种模具及其制备方法、转印方法，涉及显示技术领域，其中，模具包括：基底，所述基底的第一表面上设置有多个凹槽，所述凹槽用于容纳待转印的所述量子点薄膜，所述量子点薄膜由含有油溶性量子点材料的溶液固化后得到；疏油层，包括第一部分，所述第一部分设置在所述基底的第一表面上，且位于所述凹槽外。
本发明授权模具及其制备方法、转印方法在权利要求书中公布了：1.一种用于转印量子点薄膜的模具，其特征在于，包括：基底，所述基底的第一表面上设置有多个凹槽，所述凹槽用于容纳待转印的所述量子点薄膜，所述量子点薄膜由含有油溶性量子点材料的溶液固化后得到；疏油层，包括第一部分，所述第一部分设置在所述基底的第一表面上，且位于所述凹槽外；所述凹槽中设置有间隔层，所述间隔层与所述量子点薄膜之间的粘附力小于所述基底与所述量子点薄膜之间的粘附力；所述疏油层还包括第二部分，所述第二部分位于所述凹槽中，且位于所述间隔层与所述凹槽的底壁之间；所述间隔层的材料包括聚二甲基硅氧烷，所述疏油层的材料包括聚四氟乙烯和纳米二氧化硅中的至少一者。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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