恭喜东京毅力科创株式会社户根川大和获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利膜形成方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113053726B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011477873.3，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权膜形成方法和系统是由户根川大和;金珍锡设计研发完成，并于2020-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本膜形成方法和系统在说明书摘要公布了：本发明涉及膜形成方法和系统。[课题]提供可以形成低杂质浓度的薄膜的技术。[解决方案]本公开的一方式的膜形成方法通过执行包括如下工序的多次循环而形成薄膜：向基板供给原料气体的工序；向前述基板供给与前述原料气体反应的反应气体的工序；和，将前述基板用重氢等离子体进行处理的工序。
本发明授权膜形成方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种膜形成方法，其通过执行包括如下工序的多次循环而形成薄膜：向基板供给原料气体的工序；向所述基板供给与所述原料气体反应的反应气体的工序；将所述基板用重氢等离子体进行处理的工序；以及将所述基板用氢等离子体进行处理的工序，其在所述用重氢等离子体进行处理的工序前或工序后进行。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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