恭喜东京毅力科创株式会社今真人获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112420471B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010810448.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法是由今真人设计研发完成，并于2020-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法。本发明的边缘环在等离子体处理装置的处理容器的内部包围载置于载置台的基片的周围，该边缘环包括：第一部件，其具有能够与在上述处理容器的内部生成的等离子体接触的接触面，并且由第一材料形成；和第二部件，其设置在上述第一部件的与上述接触面相反的一侧，并且由与第一材料不同的第二材料形成，上述第一材料的杨氏模量比上述第二材料高。本发明能够抑制边缘环的消耗，并且减轻传热气体从边缘环与静电吸盘之间泄漏的状况。
本发明授权边缘环、等离子体处理装置和边缘环的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种边缘环，其在等离子体处理装置的处理容器的内部包围在载置于载置台的基片的周围，所述边缘环的特征在于，包括：第一边缘环，其上表面为能够与在所述处理容器的内部生成的等离子体接触的接触面，并且由碳化硅形成为一体；和第二边缘环，其上表面接合于所述第一边缘环的与所述接触面相反的一侧，且下表面与静电吸盘接触，并且由硅形成，所述第二边缘环在周向上被分割为多个构件，在多个所述构件各自之间以相邻的所述构件之间在周向上具有预先设定的距离方式形成槽，所述槽在纵剖视时由所述第二边缘环的相邻的所述构件的侧面和作为顶面的所述第一边缘环的底面构成。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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