恭喜长春理工大学中山研究院刘梦楠获国家专利权
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龙图腾网恭喜长春理工大学中山研究院申请的专利一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119472192B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510067089.1,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统及方法是由刘梦楠;董莉彤;胡婧;高明燕;王作斌;刘慧;罗杰;宋正勋;梁晓琨设计研发完成,并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统及方法在说明书摘要公布了:本发明涉及微纳加工领域,本发明提供一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统及方法,该系统包括以下系统包括以下三层对准标记:A)底层异形夹具层对准标记;B)上层光刻掩模板层对准标记;C)中间层异形工件层对准标记;这三层对准标记和异形夹具通过精确设计,能够固定异形工件并在空间位置上并形成对应关系,在套刻对准过程中,通过同时调整这三层标记的相对位置,实现高精度的多维对准;该方法的核心步骤包括:A)初始粗对准;B)精细对准;C)角度偏差校正;D)迭代优化。这种多层协同对准方法充分利用了各层标记的特点,能够有效补偿异形工件在多次加工过程中可能产生的累积误差,显著提高了套刻对准的精度和可靠性。
本发明授权一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统及方法在权利要求书中公布了:1.一种异形工件多层协同光刻套刻对准方法,其特征在于:使用一种异形工件多层协同光刻套刻对准系统,所述异形工件多层协同光刻套刻对准系统包括:位于底层的异形夹具,其上设有异形夹具层对准标记;位于上层的光刻掩模板,其上设有光刻掩模板层对准标记;位于中间层的异形工件,其上设有异形工件层对准标记;其中,所述异形夹具用于固定异形工件,且异形夹具层对准标记、光刻掩模板层对准标记、以及异形工件层对准标记在空间位置上形成对应关系;异形工件多层协同光刻套刻对准系统还包括:用于角度偏差校正的角度偏移检测标记,所述角度偏移检测标记为横向和纵向条纹阵列,横向条纹阵列位于异形夹具层对准标记和光刻掩模板层对准标记下方或者上方,纵向条纹阵列位于异形夹具层对准标记和光刻掩模板层对准标记左侧或者右侧;光刻掩模板层、异形夹具层和异形工件层均具有角度偏移检测标记,且光刻掩模板层上的角度偏移检测标记分别与异形夹具层和异形工件层的角度偏移检测标记对应;所述方法包括以下步骤:步骤B1:初始粗对准:调整异形夹具层对准标记和角度偏移检测标记检测与光刻掩模板层对准标记的相对位置;步骤B2:精细对准:利用异形工件层对准标记与光刻掩模板层对准标记进行精确对准;步骤B3:角度偏差校正:利用光刻掩模板和异形工件上的角度偏移检测标记检测并校正旋转角度偏差;步骤B4:迭代优化:通过多次微调异形工件层和光刻掩模板层对准标记的相对位置,实现最优对准效果。
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