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龙图腾网恭喜北京大学申请的专利一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115575869B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211292641.X，技术领域涉及：G01R33/032；该发明授权一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室是由彭翔;郭弘;刘洋;易凯文设计研发完成，并于2022-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室，其中制作方法包括：提供第一柱面镜和第二柱面镜，分别对第一柱面镜和第二柱面镜的反射面进行两层镀膜处理，内层镀膜处理的材料为五氧化二钽，外层镀膜处理的材料为二氧化硅；将镀膜处理后第一柱面镜和第二柱面镜固定在硅片上，在硅片上设置无底玻璃气室，得到含多反射腔的玻璃气室；对多个玻璃气室进行烧制得到多腔室玻璃泡；使用氦气反复清洗多腔室玻璃泡；向多腔室玻璃泡充入预设气压的氦气；取下多腔室玻璃泡内的不含吸气剂的玻璃气室，得到含多反射腔的氦原子气室。本发明能够保证最终制备出的氦原子气室的高纯度和长寿命，从而能够有效提升氦原子磁力仪的工作性能。

本发明授权一种含多反射腔的氦原子气室制作方法及氦原子气室在权利要求书中公布了：1.一种含多反射腔的氦原子气室制作方法，其特征在于，包括：提供第一柱面镜和第二柱面镜，分别对所述第一柱面镜和所述第二柱面镜的反射面进行两层镀膜处理，所述两层镀膜处理包括内层镀膜处理和外层镀膜处理，所述内层镀膜处理采用的材料为五氧化二钽，外层镀膜处理采用的材料为二氧化硅；将镀膜处理后的所述第一柱面镜和所述第二柱面镜固定在硅片上，在所述硅片上采用阳极键合技术设置无底玻璃气室，得到含多反射腔的玻璃气室；连接多个所述玻璃气室，并对多个玻璃气室进行烧制得到多腔室玻璃泡，多个所述玻璃气室包括一个含吸气剂的玻璃气室和若干个不含吸气剂的玻璃气室；对所述多腔室玻璃泡抽取真空并进行高温烘烤处理；通过直流电加热所述多腔室玻璃泡，以激活所述吸气剂；使用氦气反复清洗所述多腔室玻璃泡；向所述多腔室玻璃泡充入预设气压的氦气；将所述多腔室玻璃泡放入烤箱高温烘烤预设时长；取下所述多腔室玻璃泡内的不含吸气剂的玻璃气室，得到含多反射腔的氦原子气室。

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