恭喜株式会社国际电气大桥直史获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、半导体器件的制造方法及计算机可读的记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114256117B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111079267.0，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权基板处理装置、半导体器件的制造方法及计算机可读的记录介质是由大桥直史;天野富大;高野智设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、半导体器件的制造方法及计算机可读的记录介质在说明书摘要公布了：本发明提供基板处理装置、半导体器件的制造方法及计算机可读的记录介质，为一种抑制基板处理工序中处理室内的气体向移载室内流入、移载室内的气体向处理室内流入的技术。具有：基板载置部，其具有载置基板的基板载置面；处理容器，其形成收纳基板载置部、且对载置于基板载置面的基板进行处理的处理室；气体供给部，其向处理室供给处理气体；第1壁部，其配置在基板载置部的外周侧；第2壁部，其与第1壁部相比配置在基板载置部的更外周侧的位置；排气流路，其形成在第1壁部与第2壁部之间，用于排出处理室内的气体；和屏蔽板，其构成为配置在基板载置部的下方，且至少延伸至第2壁部的下端的下方侧。
本发明授权基板处理装置、半导体器件的制造方法及计算机可读的记录介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板载置部，其具有载置基板的基板载置面；处理容器，其形成收纳所述基板载置部、且对载置于所述基板载置面的基板进行处理的处理室；气体供给部，其向所述处理室供给处理气体；第1壁部，其配置在所述基板载置部的外周侧；第2壁部，其与所述第1壁部相比配置在所述基板载置部的更外周侧的位置；排气流路，其形成在所述第1壁部与所述第2壁部之间，用于排出所述处理室内的气体；和屏蔽板，其构成为配置在所述基板载置部的下方，所述第2壁部的下端部比所述第1壁部的下端部更接近所述屏蔽板，且所述屏蔽板至少延伸至所述第2壁部的下端的下方侧。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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