恭喜台湾积体电路制造股份有限公司张世明获国家专利权
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龙图腾网恭喜台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利利用有利区域和不利区域的几何掩模规则检查获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115113477B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210336721.4，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权利用有利区域和不利区域的几何掩模规则检查是由张世明;游信胜;余瑞晋;吴秉杰设计研发完成，并于2022-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本利用有利区域和不利区域的几何掩模规则检查在说明书摘要公布了：本公开总体涉及利用有利区域和不利区域的几何掩模规则检查。一种方法包括：根据多个目标图案来生成衍射图；根据衍射图来生成有利区域和不利区域；在有利区域中放置多个亚分辨率图案；以及对多个亚分辨率图案执行多个几何操作，以生成经修改的亚分辨率图案。经修改的亚分辨率图案延伸到有利区域并且远离不利区域。
本发明授权利用有利区域和不利区域的几何掩模规则检查在权利要求书中公布了：1.一种形成亚分辨率辅助特征的方法，包括：根据目标图案来生成衍射图，其中，所述衍射图包括亮图案和暗图案；根据所述亮图案和所述暗图案来生成有利区域和不利区域；在所述有利区域中放置第一多个亚分辨率图案；对所述第一多个亚分辨率图案执行符合掩模规则的操作，以生成第二多个亚分辨率图案，其中，所述第一多个亚分辨率图案中的第一组亚分辨率图案被放大；执行不利区域检查工艺以发现不利图案，其中，所述不利图案是延伸到所述不利区域中的经放大第一组亚分辨率图案；以及对所述第二多个亚分辨率图案执行几何操作，以生成第三多个亚分辨率图案，其中，所述不利图案与所述不利区域分隔开。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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