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龙图腾网恭喜日亚化学工业株式会社申请的专利发光装置的制造方法和发光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114902435B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080090057.9，技术领域涉及：H10H20/857；该发明授权发光装置的制造方法和发光装置是由三贺大辅设计研发完成，并于2020-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本发光装置的制造方法和发光装置在说明书摘要公布了：本发明一实施方式涉及一种发光装置的制造方法，包含将在同一面侧具备p侧电极31和n侧电极32的发光元件30设置在基材10上的工序。特别是，在本发明的一实施方式中，依次包含：在所述基材10上，形成正极侧的配线晶种层11和负极侧的配线晶种层12的步骤；在所述基材10上的载置有所述发光元件30的区域内形成抗蚀图案20的至少一部分的步骤；以所述p侧电极31和所述正极侧的配线晶种层11分隔对置，并且所述n侧电极32和所述负极侧的配线晶种层12分隔对置的方式，将所述发光元件30载置于所述抗蚀图案20上的步骤；以所述抗蚀图案20为掩膜，对所述正极侧的配线晶种层11和与该正极侧的配线晶种层11分隔配置的所述p侧电极31之间、以及所述负极侧的配线晶种层12和与该负极侧的配线晶种层12分隔配置的所述n侧电极32之间进行电镀接合的步骤；除去所述抗蚀图案20的步骤。

本发明授权发光装置的制造方法和发光装置在权利要求书中公布了：1.一种发光装置的制造方法，包含将在同一面侧具备p侧电极和n侧电极的发光元件设置于基材上的工序，其特征在于，所述工序依次包含：准备空出规定的间隔而形成有正极侧的配线晶种层和负极侧的配线晶种层的基材的步骤；在所述基材上的载置有所述发光元件的区域内形成抗蚀图案的至少一部分的步骤；以所述p侧的电极和所述正极侧的配线晶种层分隔对置，并且所述n侧的电极和所述负极侧的配线晶种层分隔对置的方式，将所述发光元件载置于所述抗蚀图案上的步骤；以所述抗蚀图案为掩膜，对所述正极侧的配线晶种层和与该正极侧的配线晶种层分隔配置的所述p侧电极之间、以及所述负极侧的配线晶种层和与该负极侧的配线晶种层分隔配置的所述n侧电极之间进行电镀接合的步骤；除去所述抗蚀图案的步骤。

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