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龙图腾网恭喜科磊股份有限公司申请的专利使用叠加目标的场对场校正获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113167745B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980079626.7，技术领域涉及：G01N21/956；该发明授权使用叠加目标的场对场校正是由E·莱欣斯凯-阿特休勒;I·塔尔西斯-沙皮尔;M·吉诺乌克;D·沙皮罗乌;G·本多夫;R·弗克维奇;C·斯蒂利设计研发完成，并于2019-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本使用叠加目标的场对场校正在说明书摘要公布了：一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。

本发明授权使用叠加目标的场对场校正在权利要求书中公布了：1.一种计量系统，其包括：控制器，其通信耦合到计量工具，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行使所述一或多个处理器进行以下操作的程序指令：接收计量目标设计，其中所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本的第一层上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征，其中所述计量目标设计进一步包含通过利用所述光刻工具在所述样本的不同于所述第一层的第二层上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场部分地重叠，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠；接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据；基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差；及基于所述一或多个制作误差产生一或多个校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。

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