恭喜应用材料公司梁奇伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利等离子体反应器、等离子体处理工件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115954255B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310064701.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体反应器、等离子体处理工件的方法是由梁奇伟;斯里尼瓦斯·D·内曼尼设计研发完成，并于2018-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体反应器、等离子体处理工件的方法在说明书摘要公布了：等离子体反应器包括腔室主体、气体分配口、工件支撑件、天线阵列、和AC功率源，腔室主体具有提供等离子体腔室的内部空间，气体分配口用于将处理气体输送到等离子体腔室，工件支撑件用于保持工件，天线阵列包括部分延伸到等离子体腔室中的多个单极天线，AC功率源用于将第一AC功率供应到多个单极天线。
本发明授权等离子体反应器、等离子体处理工件的方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体反应器，包括：腔室主体，所述腔室主体具有提供等离子体腔室的内部空间，所述腔室主体包括板部分，所述板部分提供所述等离子体腔室的顶板；气体分配口，所述气体分配口用于将处理气体输送到所述等离子体腔室；工件支撑件，所述工件支撑件用于保持工件；天线阵列，所述天线阵列包括多个单极天线，所述多个单极天线平行地延伸穿过所述板部分并且从所述顶板部分地延伸到所述等离子体腔室中；和AC功率源，所述AC功率源用于将第一AC功率供应到所述多个单极天线，以在所述等离子体腔室中产生等离子体。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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