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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利抗蚀剂组成物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112782935B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011225387.2，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权抗蚀剂组成物及图案形成方法是由阿达铁平;小林知洋;及川健一;大桥正树;藤原敬之设计研发完成，并于2020-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗蚀剂组成物及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性掩膜误差系数：MEF、尺寸均匀性CDU的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：A含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、B通式B‑1表示的光酸产生剂、及C溶剂。式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。

本发明授权抗蚀剂组成物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：A含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂，该A成分的树脂中，该具有芳香族取代基的重复单元中的1种为下式A-1表示的重复单元，具有酸不稳定基团的重复单元不包含下述式a3’表示的重复单元；B光酸产生剂，所述B光酸产生剂为通式B-1表示的光酸产生剂、和任选的选自式B-2、式B-3、式B-4中的至少1种其它光酸产生剂；C溶剂；及D成分，其是和A成分的树脂不同的树脂，且是具有选自于下式D-1、D-2及D-3表示的重复单元中的至少1种的含氟树脂； 式中，RA表示氢原子或甲基；R61表示氢原子；R62表示亦可插入杂原子的碳数1～8的直链状或分支状或环状的烃基；t为1～3的整数，u为符合u≤5+2s-t的整数；s为0或1；L1表示单键、或-C＝OO-、-C＝ONH-中的任一者； 式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基；W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基；Rf为上述通式表示的2价有机基团，A1、A2分别独立地表示氢原子或三氟甲基，B1、B2分别独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基，*表示和羰基氧基的原子键；m表示0～4，n表示0～1的整数；M+表示鎓阳离子； 其中，R1表示氢原子或甲基； 式B-2中，A1为氢原子或三氟甲基；R21为也可含有氧原子的直链状或分支状或环状的碳数1～35的1价烃基、或含氮杂环基或下式i表示的基团；M+为鎓阳离子； 式i中，R31及R32分别独立地为氢原子、或也可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的1价烃基，R31及R32也可相互键结并和它们所键结的氮原子一起形成环；R33为也可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的2价烃基；式B-3中，A2为氢原子或三氟甲基；R22、R23及R24分别独立地为氢原子、或也可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的1价烃基；p及q分别独立地为0～5的整数；r为0～4的整数；L为单键、醚基、或也可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的2价烃基；式B-4中，A3及A4分别独立地为氢原子或三氟甲基，且不会同时为氢原子；R25为也可含有氧原子的直链状或分支状或环状的碳数1～35的1价烃基、或含氮杂环基或前述式i表示的基团；M+表示鎓阳离子；其中，M+表示的鎓阳离子为选自于如下所示者中的至少1种： 式中，RA分别独立地为氢原子或甲基；R51及R52分别独立地为氢原子、或直链状或分支状或环状的碳数1～10的1价烃基；R53为单键、或直链状或分支状的碳数1～5的2价烃基；R54、R55及R56分别独立地为氢原子、或直链状或分支状或环状的碳数1～15的1价烃基、氟化1价烃基或酰基、或酸不稳定基团；R54、R55及R56为1价烃基或氟化1价烃基时，它们的一部分碳原子也可经醚基或羰基取代；R57为直链状或分支状或环状的碳数1～20的v+1价的烃基或氟化烃基；v为1～3的整数。

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