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龙图腾网恭喜巴斯夫欧洲公司申请的专利用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111386332B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880076649.8，技术领域涉及：C11D1/835；该发明授权用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物是由I·C·周;A·克里普;B·费斯提尔设计研发完成，并于2018-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物在说明书摘要公布了：本发明描述一种用于清洁或清洗产品、优选在半导体行业中所用的产品的组合物，其包含含有一个或多个氟烷基的离子化合物作为一级表面活性剂，和至少一种含有一个或多个聚烷氧基和或聚亚烷氧基的非离子化合物作为二级表面活性剂，以及该组合物的相应用途。本发明进一步描述一种生产经清洁或清洗的产品、优选在半导体行业中所用的产品的方法，该产品包含基板和其上所支撑的图案化材料层，该图案化材料层具有线宽为等于或低于50nm的线‑间隙结构，该方法包括用本发明的组合物清洁或清洗该产品的步骤。

本发明授权用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物在权利要求书中公布了：1.一种用于清洁或清洗产品的组合物，其包含：A式I离子化合物作为一级表面活性剂， 其中X是不含金属的单价阳离子，其选自由以下组成的组：-质子和-基团NR4+，其中每个R独立地选自由以下组成的组：H和支化或未支化的C1-6烷基；Y1与Y2中的一个是选自由以下组成的组的阴离子极性基团：-COO-、-SO3-、-OSO3-、-PO32-和-OPO32-，且另一个是氢，基团Z1、Z2和Z3各自彼此独立地是：-具有结构Ri-{A[-CR1R2-]c[-CR3R4-]d}e-的基团，其中：R1、R2、R3和R4彼此独立地是氢或支化或未支化的C1-4烷基，Ri是支化或未支化的C1-10氟烷基，A是氧、硫和或-NH-，c是在1至10范围内的整数，d是在1至10范围内的整数，e是在1至5范围内的整数，和B至少一种含有一个或多个聚烷氧基和或聚亚烷氧基的非离子化合物作为二级表面活性剂，所述至少一种非离子化合物是选自由以下组成的组：B1式II化合物，其中式II化合物选自由以下组成的组：-式IIa化合物： 其中R6是支化或未支化的C2-6亚烷基，R18是氢或支化或未支化的C1-4烷基，且l是在5至30范围内的整数，-式IIb化合物： 其中R6是支化或未支化的C2-6亚烷基，R18是氢或支化或未支化的C1-4烷基，且l是在5至30范围内的整数，和-它们的混合物；B2式III化合物，H3C-CH2m-CH2-[O-R7]n-OR19III其中R7是支化或未支化的C2-6亚烷基，R19是氢或支化或未支化的C1-4烷基，m是在5至30范围内的整数；且n是在5至30范围内的整数；B3式IV化合物， 其中R17是支化或未支化的C2-6亚烷基，且o是在5至30范围内的整数，B4式V化合物， 其中R8、R13和R14各自彼此独立地是氢或甲基，R9、R11和R12各自彼此独立地是支化或未支化的C2-6亚烷基，R10是支化或未支化的C1-4烷基，且p、q和r各自彼此独立地是在2至25范围内的整数，和B5式VI化合物，H3C3Si-O-R15-O-SiCH33VI其中R15由以下组成：数目在1至100范围内的式VII重复单元：-[SiCH32-O]-VII，和数目在1至100范围内的式VIII重复单元：-[SiCH3R16-O]-VIII，其中R16是包含一个或多个乙二醇基团和或一个或多个丙二醇基团的基团，且其中这些式VII重复单元和这些式VIII重复单元如下排列：-无规排列，或-在无规交替嵌段中排列，这些无规交替嵌段在每种情况下按每嵌段计包含两个或更多个式VII重复单元或式VIII重复单元。

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