中国科学院理化技术研究所张锡奇获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院理化技术研究所申请的专利一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119368158B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411504094.6，技术领域涉及：B01J21/18；该发明授权一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用是由张锡奇;井潇;庞帅;江雷设计研发完成，并于2024-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用，所述金属离子掺杂氧化石墨烯膜包括氧化石墨烯膜及负载于氧化石墨烯膜表面与层间的金属离子。本发明的金属离子掺杂氧化石墨烯膜内的金属离子通过阳离子‑π作用诱导反应物分子取向，结合金属离子与GO之间形成的限域通道，使催化合成席夫碱的反应物的前线分子轨道更加匹配，降低了分子自由度，使分子以特定取向进行断键和成键反应。分子在层间有序地排列并流动通过氧化石墨烯纳米片在膜层间提供的二维纳米限域通道，从而降低了反应活化能，在室温条件下实现了多种席夫碱的高效催化合成。同时通过调控该膜材料的化学微观结构，可以有效地提升催化反应效率和反应选择性。
本发明授权一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用在权利要求书中公布了：1.一种金属离子掺杂氧化石墨烯膜在催化合成席夫碱中的应用；所述金属离子掺杂氧化石墨烯膜包括氧化石墨烯膜及负载于氧化石墨烯膜表面与层间的金属离子；所述金属离子为Mg2+、Ca2+中的至少一种；所述氧化石墨烯膜的厚度为0.2~10μm；所述金属离子掺杂氧化石墨烯膜的晶面间距在0.8~1.6nm；所述金属离子掺杂氧化石墨烯膜中，金属离子的质量占比在0.01~10%。
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