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龙图腾网获悉伏羲半导体(深圳)有限公司申请的专利一种半导体基板清洗设备及其清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119281743B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411313463.3，技术领域涉及：B08B3/12；该发明授权一种半导体基板清洗设备及其清洗方法是由过叶钦;何平英;谢纯虎设计研发完成，并于2024-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体基板清洗设备及其清洗方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半导体基板清洗设备及其清洗方法，包括控制柜体，所述控制柜体上安装有超声波清洗箱，所述超声波清洗箱上连接有三个固定杆，所述固定杆的另一端固定连接有连接筒，所述连接筒上贯穿连接有气管。本发明中，采用超声波清洗箱、承载框、吸气框、出气通道、旋转珠和导向槽，在半导体基板进入超声波清洗箱内的清洗剂之前对其表面粘附的灰尘和颗粒杂物进行吹气清理，且多角度的吹气较为全面的覆盖在半导体基板表面及其缝隙中，灰尘和颗粒杂物随着气体被吸气框抽吸处理，避免灰尘颗粒杂物对清洗剂的影响，将有机物质与颗粒杂物和灰尘分别处理，保证清洗剂的使用寿命和半导体基板内缝隙处的清理效果。

本发明授权一种半导体基板清洗设备及其清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体基板清洗设备，包括控制柜体1，其特征在于，所述控制柜体1上安装有超声波清洗箱3，所述超声波清洗箱3上连接有三个固定杆4，所述固定杆4的另一端固定连接有连接筒5，所述连接筒5上贯穿连接有气管6，所述气管6的底端连通有旋转出气装置8，所述连接筒5内开设有导向槽9，所述旋转出气装置8滑动连接在导向槽9内，所述旋转出气装置8上连接有贯穿设在连接筒5上的活动调整装置10，所述活动调整装置10的背面连通有中间管11，所述中间管11的另一端连通有固定连接在超声波清洗箱3内壁的挤压调节装置12，所述超声波清洗箱3内壁固定连接有三个滑动支撑装置13，所述滑动支撑装置13上固定连接有承载框14，所述承载框14上开设有放置槽15，所述承载框14的两侧均贯穿连接有位于放置槽15内的活动限位装置20，所述超声波清洗箱3内壁的后侧对应承载框14的位置连接有竖板18，所述竖板18的正面固定连接有挤压块19，所述超声波清洗箱3内壁下侧对应活动限位装置20的位置连接有延伸杆22，所述延伸杆22的顶端固定连接有挤压板21；所述滑动支撑装置13包括固定连接在超声波清洗箱3内的电动液压杆131，所述电动液压杆131的顶端固定连接有中间座132，所述中间座132上开设有滑动槽133，所述滑动槽133内滑动连接有与承载框14固定连接的滑动块134，所述滑动块134设为T型，所述滑动块134的背面固定连接有设在滑动槽133内的第三弹性组件135；所述活动限位装置20包括贯穿连接在承载框14侧壁的直线轴承201，所述直线轴承201内套设有活动杆202，所述活动杆202位于放置槽15外的一端固定连接有接触球203，所述活动杆202位于放置槽15内的一端固定连接有限位板205，所述活动杆202外套设有与直线轴承201和接触球203固定连接的第四弹性组件204。

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