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龙图腾网恭喜朗姆研究公司申请的专利由削减式工艺形成的金属互连结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113169117B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980079243.X，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权由削减式工艺形成的金属互连结构是由托马斯·韦勒·芒特斯尔设计研发完成，并于2019-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本由削减式工艺形成的金属互连结构在说明书摘要公布了：通过在形成两个相邻的金属化层之后形成一或更多个通孔，可制造集成电路的金属互连结构。该一或更多个通孔与第一金属化层以及第二金属化层完全对准。在金属互连结构的加工期间，硬掩模材料或其他绝缘隔离材料被留在第一金属化层以及第二金属化层的顶部上。对其中硬掩模材料或其他绝缘隔离材料中的一些进行蚀刻，然后利用导电材料将其回填以形成一或更多个通孔，其中该一或更多个通孔容纳于不与周围介电材料重叠的空间内。

本发明授权由削减式工艺形成的金属互连结构在权利要求书中公布了：1.一种制造金属互连结构的方法，该方法包含：通过削减式图案化在衬底上形成第一图案化金属线层；在所述第一图案化金属线层上形成多个第一绝缘特征；在形成所述多个第一绝缘特征后，在所述第一图案化金属线层的相邻金属线之间的空间中形成第一介电材料；通过削减式图案化在所述第一图案化金属线层上方形成第二图案化金属线层；在所述第二图案化金属线层上形成多个第二绝缘特征；以及在形成所述多个第二绝缘特征后，在所述第二图案化金属线层的相邻金属线之间的空间中形成第二介电材料；在形成所述第二图案化金属线层后，形成在所述第一图案化金属线层与所述第二图案化金属线层之间提供电互连的一或更多个通孔，以形成所述金属互连结构，其中形成所述一或更多个通孔包含：蚀刻穿过一或更多个第二绝缘特征，其中蚀刻穿过所述一或更多个第二绝缘特征的操作相对于包围所述一或更多个第二绝缘特征的所述第二介电材料具有选择性；蚀刻穿过所述第二图案化金属线层，其中蚀刻穿过所述第二图案化金属线层的操作相对于包围所述第二图案化金属线层的所述第二介电材料具有选择性；蚀刻穿过一或更多个第一绝缘特征以形成一或更多个通孔开口，以使所述第一图案化金属线层暴露，其中蚀刻穿过所述一或更多个第一绝缘特征的操作相对于包围所述一或更多个第一绝缘特征的所述第一介电材料具有选择性；以及在所述一或更多个通孔开口中沉积导电材料，以在暴露的所述第一图案化金属线层上形成所述一或更多个通孔。

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