恭喜奥昱新材料技术(嘉兴)有限公司陆红卫获国家专利权
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龙图腾网恭喜奥昱新材料技术(嘉兴)有限公司申请的专利一种待极化件、承载台和极化室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111384230B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910308554.0，技术领域涉及：H10N30/045；该发明授权一种待极化件、承载台和极化室是由陆红卫;王大亮;丁坤宝;埃夫仁;张晓燕;王开安设计研发完成，并于2019-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种待极化件、承载台和极化室在说明书摘要公布了：本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术，尤其涉及一种待极化件、承载台和极化室。所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地电极包括多个，所述接地电极在基板上间隔排列，所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面，所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。本公开实施例所提供的待极化件、承载台和极化室，实现了快速极化多个极化件的效果。
本发明授权一种待极化件、承载台和极化室在权利要求书中公布了：1.一种承载台，其特征在于：所述承载台用于承载待极化件，所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地电极包括多个，所述接地电极在基板上间隔排列，所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面，所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚；所述承载台呈平板状，所述承载台上开设有承载槽，所述承载槽的底部还开设至少两个贯穿所述承载台厚度方向的顶升孔，所述承载台上和承载槽相对的表面上还开设接地孔，所述承载台还包括承载电极，至少部分所述承载电极设置在所述接地孔的底部以及承载槽的侧面。
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