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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种像素尺寸、实际尺寸的测量方法及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113963049B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111258260.5，技术领域涉及：G06T7/60；该发明授权一种像素尺寸、实际尺寸的测量方法及电子设备是由周全;李宜清;肖博翰;简晓敏设计研发完成，并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种像素尺寸、实际尺寸的测量方法及电子设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种像素尺寸、实际尺寸的测量方法及电子设备。该像素尺寸的测量方法包括步骤：分别采集移动待测量对象前后的第一图像和第二图像，分别获得第一图像和第二图像的二值图像；从标志模板库中为第一图像的二值图像选取匹配的标志模板，在第一图像的二值图像中截取包括匹配的标志模板的第一匹配区域并记录第一匹配区域的位置，将第一匹配区域作为标志模板在第二图像的二值图像中搜索匹配的第二匹配区域，并记录第二匹配区域的位置；根据待测量对象的移动位移以及第一匹配区域和第二匹配区域的像素坐标位移计算像素尺寸。本发明将第一匹配区域确定为标志模板，并和第二图像进行匹配以获得第二匹配区域，可精确测量像素尺寸和实际尺寸。

本发明授权一种像素尺寸、实际尺寸的测量方法及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种像素尺寸的测量方法，其特征在于，包括步骤：S101，分别采集移动待测量对象前后的第一图像和第二图像，分别获得所述第一图像和所述第二图像的二值图像；S102，从标志模板库中为所述第一图像的二值图像选取匹配的标志模板，在所述第一图像的二值图像中截取包括该匹配的标志模板的第一匹配区域并记录该第一匹配区域的位置，还将该第一匹配区域作为标志模板在所述第二图像的二值图像中搜索匹配的第二匹配区域，并记录该第二匹配区域的位置；S103，根据所述待测量对象的移动位移以及所述第一匹配区域和第二匹配区域的像素坐标位移计算所述待测量对象的像素尺寸；步骤S102的具体实现为：从所述标志模板库中为所述第一图像的二值图像按匹配度从高至低选取前N个匹配度对应的N个标志模板，N＞1，分别在所述第一图像的二值图像中截取该N个标志模板各自对应的所述第一匹配区域并记录该N个第一匹配区域的位置，还将该N个所述第一匹配区域作为N个标志模板分别在所述第二图像的二值图像中搜索匹配的N个所述第二匹配区域，并记录该N个所述第二匹配区域的位置。

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