三菱瓦斯化学株式会社中西讲平获国家专利权
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龙图腾网获悉三菱瓦斯化学株式会社申请的专利聚酰亚胺薄膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115135702B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180015182.8，技术领域涉及：C08J5/18；该发明授权聚酰亚胺薄膜的制造方法是由中西讲平;末永修也;广瀬重之设计研发完成，并于2021-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚酰亚胺薄膜的制造方法在说明书摘要公布了：一种聚酰亚胺薄膜的制造方法，其为由聚酰亚胺树脂所形成的聚酰亚胺薄膜的制造方法，前述聚酰亚胺树脂具有：源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含：源自脂环式四羧酸二酐的结构单元，结构单元B包含：源自下述通式b1所示的化合物的结构单元B1，所述制造方法如下：将有机溶剂中溶解该聚酰亚胺树脂而成的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，在60～140℃下去除该有机溶剂，形成自支撑性薄膜，将该自支撑性薄膜自支撑体剥离，将该自支撑性薄膜的端部固定，在超过聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度的温度且比聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度高50℃的温度以下进行焙烧。式b1中，X1表示单键、任选由氟取代的碳数1～5的亚烷基、任选由氟取代的碳数2～5的烷叉基、‑S‑、‑SO‑、‑SO2‑、‑O‑或‑CO‑。
本发明授权聚酰亚胺薄膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种聚酰亚胺薄膜的制造方法，其为由聚酰亚胺树脂所形成的聚酰亚胺薄膜的制造方法，所述聚酰亚胺树脂具有：源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含：源自脂环式四羧酸二酐的结构单元，结构单元B包含：源自下述通式b1所示的化合物的结构单元B1，所述制造方法如下：将有机溶剂中溶解该聚酰亚胺树脂而成的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上，在60～140℃下去除该有机溶剂，形成自支撑性薄膜，将该自支撑性薄膜自支撑体剥离，将该自支撑性薄膜的端部固定，在超过聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度的温度且比聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度高10℃的温度以下进行焙烧， 式b1中，X1表示单键、任选由氟取代的碳数1～5的亚烷基、任选由氟取代的碳数2～5的烷叉基、-S-、-SO-、-SO2-、-O-或-CO-。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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