富士胶片株式会社堀田吉则获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利金属填充微细结构体的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115210410B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180017274.X，技术领域涉及：C25D11/20；该发明授权金属填充微细结构体的制造方法是由堀田吉则设计研发完成，并于2021-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属填充微细结构体的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种输送性优异且抑制绝缘性能劣化的金属填充微细结构体的制造方法。金属填充微细结构体的制造方法具有：形成工序，在由配置于阀金属部件外缘的框架部包围的形成区域中形成具有多个细孔的氧化膜，由此得到具有阀金属部件和氧化膜的结构体；填充工序，对结构体在氧化膜的多个细孔中填充金属；及保持工序，将通过填充工序对结构体在氧化膜的多个细孔中填充金属而得到的金属填充部件在相对湿度10～30％的环境下暴露24小时以上。多个细孔的平均直径为1μm以下。
本发明授权金属填充微细结构体的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种金属填充微细结构体的制造方法，其具有：形成工序，在由配置于阀金属部件外缘的框架部包围的形成区域中形成具有多个细孔的氧化膜，由此得到具有所述阀金属部件和所述氧化膜的结构体；填充工序，对所述结构体在所述氧化膜的所述多个细孔中填充金属；及保持工序，将通过所述填充工序对所述结构体在所述氧化膜的所述多个细孔中填充金属而得到的金属填充部件在相对湿度10%～30%的环境下暴露24小时以上，所述多个细孔的平均直径为1μm以下，所述填充工序是通过在所述结构体的表面上形成金属层而将所述金属填充于所述多个细孔的工序，所述填充工序中，在所述框架部上形成厚度为100μm以下的所述金属层，在所述保持工序之后，具有去除形成于所述结构体的所述表面上的所述金属层的金属层去除工序。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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