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上海川土微电子有限公司丁万新获国家专利权

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龙图腾网获悉上海川土微电子有限公司申请的专利一种Quad-CAP高耐压隔离电容及数字隔离器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111952450B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010832721.4,技术领域涉及:H10N97/00;该发明授权一种Quad-CAP高耐压隔离电容及数字隔离器是由丁万新设计研发完成,并于2020-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

一种Quad-CAP高耐压隔离电容及数字隔离器在说明书摘要公布了:本公开实施例中提供了一种Quad‑CAP高耐压隔离电容及数字隔离器,包括互相连接的两个隔离电容单元,每个隔离电容单元均包括下极板、上极板以及依次设置在下极板和上极板之间的SiO2介质层和Polyimide介质层,所述SiO2介质层的厚度为9‑11um,Polyimide介质层的厚度为18‑22um。本公开的隔离电容能有效的提高数字隔离器芯片的隔离耐压值,从而提高隔离器芯片的可靠性,同时满足一些高耐压场合的需求。

本发明授权一种Quad-CAP高耐压隔离电容及数字隔离器在权利要求书中公布了:1.一种Quad-CAP高耐压隔离电容,其特征在于,包括互相连接的两个隔离电容单元,每个所述隔离电容单元均包括下极板、上极板以及依次设置在下极板和上极板之间的SiO2介质层和Polyimide介质层,所述下极板为第二层金属M2,所述上极板是晶圆后道加工所形成的厚铜,所述上极板同时作为PAD与另外一颗的隔离电容单元裸芯进行打线互连,所述SiO2介质层的厚度为9-11um,Polyimide介质层的厚度为18-22um,所述隔离电容单元的单颗裸芯有两个串联的隔离电容介质,每个隔离器由两颗裸芯组成,Quad-CAP隔离器的隔离栅由四颗隔离电容串联而成。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海川土微电子有限公司,其通讯地址为:201306 上海市浦东新区南汇新城镇环湖西二路888号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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