恩特格里斯公司C·J·哈尔获国家专利权
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龙图腾网获悉恩特格里斯公司申请的专利晶片缓冲器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114287055B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080060001.9，技术领域涉及：H01L21/673；该发明授权晶片缓冲器是由C·J·哈尔;M·A·富勒设计研发完成，并于2020-07-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶片缓冲器在说明书摘要公布了：用于在晶片载体中使用的晶片缓冲器包含弹性梁，所述弹性梁包含：第一臂，其沿第一方向从所述晶片缓冲器的框架延伸；及第二臂，其沿第二方向从所述第一臂延伸；及晶片接触件，其位于所述第二臂的与所述第二臂结合到所述第一臂之处相对的端处。在正常条件期间，所述晶片缓冲器可仅在所述晶片接触件处接触所述晶片载体内的衬底。所述衬底也可在冲击事件发生时，接触所述第二臂上的次级接触点。所述晶片接触件可为v形沟槽式晶片接触件。所述晶片接触件可包含具有凸面的接触表面，所述接触表面经配置以在所述凸面处接触所述衬底。
本发明授权晶片缓冲器在权利要求书中公布了：1.一种晶片缓冲器，其包括：框架；及多个弹性梁，其中所述多个弹性梁中的每一者包含：第一臂，其结合到所述框架且沿第一方向与所述框架分离开延伸到第一臂端；第二臂，其在所述第一臂端处结合到所述第一臂，且沿与所述第一方向不同的第二方向延伸到第二臂端，且其中所述第二臂朝向所述第一臂弯曲；及晶片接触件，其在所述第二臂端处结合到所述第二臂，其中所述晶片接触件的宽度大于所述第二臂的一部分的宽度，并且所述第一臂在结合到所述框架之处远离所述第二臂延伸，其中所述弹性梁中的每一者包括所述第二臂上的次级晶片接触点，所述次级晶片接触点位于所述第二臂结合到所述第一臂之处，且其中所述次级晶片接触点经配置以仅在冲击事件发生时接触所述晶片的背面。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人恩特格里斯公司，其通讯地址为：美国马萨诸塞州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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