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龙图腾网获悉泉州师范学院申请的专利半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111595860B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010555191.3，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置及方法是由廖廷俤;颜少彬;黄启禄设计研发完成，并于2020-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置及方法在说明书摘要公布了：本发明半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置及方法在相邻双面成像光路中分别采用特殊设计的反射转像棱镜，或特殊设计的立方分束合像器合像器来实现双面成像的空间分离的检测新装置与方法，该新装置可以实现半导体晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测，但是无需使用大景深远心成像镜头或偏振光学元件或CMOS偏振相机或玻璃平行平板分像光学元件，有效简化了检测系统的光学与精密机械结构，降低了检测装置的成本。

本发明授权半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体致冷器件晶粒相邻双面同时完全等光程共焦成像检测新装置，其特征在于：包括在光路方向上设置的CMOS或CCD相机、远心成像镜头、立方分束合像器、半导体晶粒和用于承置半导体晶粒的透明玻璃载物台，在半导体晶粒与立方分束合像器之间的光路上分别设有天面直角转像棱镜和侧面直角转像棱镜，侧面直角转像棱镜和天面直角转像棱镜分别位于半导体晶粒的正侧部和天面正上方，立方分束合像器与天面直角转像棱镜在同一水平高度；侧面直角转像棱镜与立方分束合像器位于远心成像镜头的光轴上，同时侧面直角转像棱镜的第一直角面与远心成像镜头的光轴垂直，且与立方分束合像器的第一面相对，侧面直角转像棱镜的第二直角面与半导体晶粒侧面平行相对，侧面直角转像棱镜的斜面与远心成像镜头光轴倾斜设置；天面直角转像棱镜的第一直角面与远心成像镜头的光轴平行，且与立方分束合像器的第二面相对，天面直角转像棱镜的第二直角面与半导体晶粒天面平行相对，天面直角转像棱镜的斜面与远心成像镜头光轴倾斜设置；立方分束合像器的第一面、第二面分别与远心成像镜头的光轴法向面、光轴形成光楔角，立方分束合像器第二面相背的第四面旁侧设有同轴外置照明光源，半导体晶粒的天面与侧面分别经天面直角转像棱镜、侧面直角转像棱镜、立方分束合像器以完全等光程共焦成像在相机传感器面上，以在CMOS或CCD相机上获取半导体晶粒双面各自独立的像；所述立方分束合像器的第一面、第二面的光楔角为α1和α2，α1和α2为构成立方分束合像器的两个分光棱镜偏离直角的光楔角，立方分束合像器四个角度为90°，90°-α1，90°，90°+α2；光楔角α1和α2使双面成像光束分别向立方分束合像器的光轴两侧产生了角位移γ1和γ2，且γ1与γ2的大小取决于立方分束合像器玻璃折射率n以及等效玻璃光楔角α1与α2；从立方分束合像器输出半导体晶粒相邻面的像在空间上分开，光楔角α1产生的角位移γ1=（n-1）xα1，γ2=（n-1）xα2，且双像角位移为γ=γ1+γ2；立方分束合像器中心与侧面反射转像棱镜斜面中心距离D2+d，侧面成像光路工作距WD=D2+d2，立方分束合像器与天面反射转像棱镜斜面在同一水平高度上，二者中心的距离D2+d，天面成像光路工作距WD=D2+d2；D为透明玻璃载物台宽度，d为棱镜直角边长。

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