株式会社斯库林集团樋口鲇美获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利衬底处理方法及衬底处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113614889B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080022833.1，技术领域涉及：H01L21/306；该发明授权衬底处理方法及衬底处理装置是由樋口鲇美;赤西勇哉设计研发完成，并于2020-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底处理方法及衬底处理装置在说明书摘要公布了：衬底处理方法具备下述工序：将具有在表面形成有源自于干蚀刻的变质层的非晶硅层的衬底以水平状态保持的工序步骤S11；通过向变质层照射紫外线，从而对变质层进行改性以生成改性层的工序步骤S12；和向在表面具有该改性层的非晶硅层供给药液，针对非晶硅层进行湿蚀刻的工序步骤S13。由此能够高效地进行非晶硅层的湿蚀刻。
本发明授权衬底处理方法及衬底处理装置在权利要求书中公布了：1.衬底处理方法，其包括下述工序：a将具有在表面形成有源自于干蚀刻的变质层的非晶硅层的衬底以水平状态保持的工序；b通过向所述变质层照射紫外线，从而对所述变质层进行改性以生成改性层的工序；和c向在表面具有所述改性层的所述非晶硅层供给药液，以针对所述非晶硅层进行湿蚀刻的工序，所述非晶硅层为在针对所述衬底的多重图案化中途形成的中间图案，在所述干蚀刻中，通过针对覆盖所述中间图案的上表面及侧面的被覆膜进行各向异性蚀刻，从而使所述中间图案的所述上表面从所述被覆膜露出，形成覆盖所述中间图案的所述侧面的所述被覆膜的侧壁，在所述湿蚀刻中，所述中间图案被除去而保留所述侧壁。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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