芯越微电子材料(嘉兴)有限公司姚家辉获国家专利权
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龙图腾网获悉芯越微电子材料(嘉兴)有限公司申请的专利一种化学机械抛光液及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119912878B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510408435.8，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液及应用是由姚家辉;苏品全;刘江华设计研发完成，并于2025-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液及应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种化学机械抛光液及应用，包括研磨颗粒、抛光促进剂、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和水；所述抛光促进剂包括碱金属的无机酸盐和碱金属的有机酸盐；所述碱金属的无机酸盐包括碱金属的碳酸盐、碱金属的碳酸氢盐、碱金属的硝酸盐和碱金属的硫酸盐中的一种或多种；所述碱金属的有机酸盐包括碱金属的草酸盐、碱金属的乙酸盐、碱金属的柠檬酸盐、碱金属的邻苯二甲酸盐和碱金属的二胺四乙酸盐中的一种或多种。本发明实现了GaSb单晶片抛光的一步成型，工艺简单，稳定性好，将原本抛光需要的时间从2h以上缩短至15分钟左右，且GaSb单晶片表面光洁，无划痕、橘皮、雾面等缺陷存在，粗糙度Ra可达到0.3nm以下。
本发明授权一种化学机械抛光液及应用在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光液，包括研磨颗粒、抛光促进剂、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和水；所述抛光促进剂包括碱金属的无机酸盐和碱金属的有机酸盐；所述碱金属的无机酸盐包括碱金属的硝酸盐中的一种或多种；所述碱金属的有机酸盐包括反式-1，2-环己二胺四乙酸盐、乙二胺四乙酸盐中一种或多种；所述化学机械抛光液中，碱金属的无机酸盐与碱金属的有机酸盐的质量比为（0.2wt%~2wt%）：（0.05wt%~0.5wt%）；所述化学机械抛光液的pH值为9.2~10.2；以质量百分比计，所述研磨颗粒在抛光液中的质量百分含量为0.1wt%~30wt%；所述碱金属的无机酸盐在抛光液中的质量百分含量为0.2wt%~2wt%；所述碱金属的有机酸盐在抛光液中的质量百分含量为0.05wt%~0.5wt%；所述氧化剂在抛光液中的质量百分含量为0.01wt%~8wt%；所述表面活性剂在抛光液中的质量百分含量为0.001wt%~1wt%。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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