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龙图腾网获悉云南贵金属实验室有限公司;贵研铂业股份有限公司申请的专利一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116875952B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310839299.9，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途是由王传军;闻明;巢云秀;沈月;施晨琦;许彦亭;李思勰;刘牛;普志辉设计研发完成，并于2023-07-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途，该溅射靶材氧含量小于50ppm，表面粗晶层厚度小于50um，平均晶粒尺寸2‑8微米，晶界处孔洞呈近球形，直径小于1um，靶材相对密度大于理论密度的99％。制备方法以具有形貌和粒径分布可控的高纯钌粉为原料，通过真空热压烧结法制备钌靶材；通过对真空度控制、加压烧结获得靶材坯料，最终获得具有低氧高密度且具有良好机加工性能的溅射靶材。本发明通对粉末形貌和粒径分布以及真空热压烧结工艺的控制，改善了钌靶氧含量高、表面粗晶层厚、致密度低、机加工性能差等缺点，获得低氧含量和高致密度且加工性能好的溅射靶材，避免常规热压烧结工艺制备的靶材加工困难的缺点。

本发明授权一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途在权利要求书中公布了：1.一种低氧高密度Ru溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤（1），原料准备，包括： 以4N以上高纯钌粉为原料，所述钌粉呈近球形，平均颗粒尺寸为0.5-5um，氧含量小于500ppm； 步骤（2），加压烧结，包括： 将高纯钌粉粉末装填于石墨模具中，通过真空热压烧结实现致密化； 真空热压烧结时，待真空度到达1×10-2-1×10-3Pa后，开始升温，升温与升压同步进行，首先升温至600℃-800℃，升温速率为2-5℃min，升压速率为0.03-0.09MPamin，压力10-15MPa,到温后保温保压0.5小时；其次升温至1100℃-1200℃，升温速率为2-4℃min，升温时同时升压，升压速率为0.15-0.6MPamin，压力30-50MPa，到温后保温保压1-2h，保温结束前0.5小时开始泄压，泄压至5MPa以下后开始降温，随炉冷却到400℃以下取出坯料； 步骤（3），机加工，包括： 首先采用磨削加工去除表面粗晶层； 磨削完成后，进行车削加工得到所述低氧高密度Ru溅射靶材； 所述Ru溅射靶材氧含量小于50ppm，表面粗晶层厚度小于50um，平均晶粒尺寸2-8um，晶界处孔洞呈球形，最大孔洞直径小于1um，靶材致密度大于理论密度的99%。

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