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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116694114B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310194659.4，技术领域涉及：C09D1/00；该发明授权金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法是由小林直贵;郡大佑;矢野俊治设计研发完成，并于2023-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法。本发明课题为提供相对于已知的有机下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性而且兼顾高程度的填埋平坦化特性的金属氧化膜形成用组成物、使用了此组成物的图案形成方法、及金属氧化膜抗蚀剂下层膜形成方法。一种金属氧化膜形成用组成物，其特征为含有A金属氧化物纳米粒子、B为选自下列通式I、通式II及通式III中的一种以上表示的化合物及或分子量5000以下的聚合物的流动性促进剂、及C有机溶剂，该A金属氧化物纳米粒子与该B流动性促进剂的重量比例为1090～9010。

本发明授权金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法在权利要求书中公布了：1.一种金属氧化膜形成用组成物，其特征为含有 A金属氧化物纳米粒子、B为选自下列通式3、4及5中的一种以上表示的化合物及或具有选自下列通式6、7及8中的一种以上表示的重复单元的分子量5000以下的聚合物的流动性促进剂、及C有机溶剂， 该A金属氧化物纳米粒子与该B流动性促进剂的重量比例为1090～9010， 该通式3及该通式4中，W1及W2各自独立地为苯环或萘环，该苯环及萘环中的氢原子亦可被碳数1～6的烃基取代，Ra为氢原子、或是下式Ra-1表示的结构，Y为下列通式1表示的基团，n1为0或1，n2为1或2， 式Ra-1中，p为1～10； 该通式5中，Z1为下列通式2表示的基团，Rb为氢原子或碳数1～10的饱和烃基或碳数2～10的不饱和烃基，n4为0或1，n5为1或2， ＊表示原子键， 该通式2中，W1、W2、Y、n1同前所述； 该通式6及7中，W1、W2、Ra、Y、n1、n2同前所述，L为碳数1～40的2价有机基团， 该通式8中，Z1、Rb、n4、n5同前所述，L为碳数1～40的2价有机基团。

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