恭喜应用材料公司闵笑全获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利在器件制造中形成金属硬掩模的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111919284B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980021152.0，技术领域涉及：H01L21/033；该发明授权在器件制造中形成金属硬掩模的系统和方法是由闵笑全;P·K·库尔施拉希萨;K·D·李;V·K·普拉巴卡尔设计研发完成，并于2019-03-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本在器件制造中形成金属硬掩模的系统和方法在说明书摘要公布了：本文公开了一种用于基板制造的方法和系统。所述方法包括在处置基板之前在腔室中执行第一等离子体增强表面处理，然后，随后，在所述工艺腔室中沉积陈化材料。在所述工艺腔室中沉积多种陈化材料之后，将基板设置在所述腔室中。将所述基板在所述工艺腔室中定位成与所述陈化材料接触。执行基板处理。所述基板处理可包括以下项中的一者或多者：执行第二等离子体增强表面处理、在所述基板上形成阻挡层、或在所述基板上形成金属基硬掩模膜之前执行低频RF处理。所述金属基硬掩模膜包括一种或多种金属。
本发明授权在器件制造中形成金属硬掩模的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种形成硬掩模的方法，包括： 在工艺腔室中执行第一等离子体增强表面处理； 在执行所述第一等离子体增强表面处理之后，将陈化材料沉积在所述工艺腔室的多个暴露表面上； 在将所述陈化材料沉积在所述工艺腔室的所述多个暴露表面上之后，将基板定位在所述工艺腔室中并与所述陈化材料接触； 对所述基板执行处理以在所述基板上形成阻挡层，所述处理包括： 执行第二等离子体增强表面处理，其中所述第二等离子体增强表面处理是氢和氮等离子体增强表面处理； 在执行所述第二等离子体增强表面处理之后，使前驱物吸附在所述基板的表面上； 在使所述前驱物吸附之后，执行第三等离子体增强表面处理，所述第三等离子体增强表面处理是等离子体增强氢和氮表面处理；以及 执行低频RF处理；以及 在对所述基板执行所述处理之后，在所述基板上形成金属硬掩模膜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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