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龙图腾网获悉深圳市诺斯特新材料有限公司申请的专利电路板阻抗的校准方法、系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119849431B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510337172.6，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权电路板阻抗的校准方法、系统是由邓江波;史林冲设计研发完成，并于2025-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本电路板阻抗的校准方法、系统在说明书摘要公布了：本发明涉及制造工艺优化技术领域，公开了一种电路板阻抗的校准方法、系统，所述方法包括：获取电路板设计参数；根据电路板设计参数，建立初始阻抗模型；对初始阻抗模型进行参数调整，得到修正阻抗模型；对修正阻抗模型进行误差分析，得到初始阻抗预测值；对初始阻抗预测值进行迭代补偿，得到优化阻抗预测值；将优化阻抗预测值与预设值进行判断，得到最终阻抗预测值；将最终阻抗预测值进行测试，并计算测试方差，将该方差与预设阈值进行判断，得到测试结果；根据测试结果与预设条件进行判断，生成阻抗校准报告；根据阻抗校准报告，对电路板生产工艺参数进行更新，生成新的电路板生产指导文件。本方法能够高效率地实现电路板阻抗的校准。

本发明授权电路板阻抗的校准方法、系统在权利要求书中公布了：1.电路板阻抗的校准方法，其特征在于，包括： 获取电路板设计参数，所述电路板设计参数包括走线宽度、铜箔厚度、介质材料特性数据、接触不良概率以及蚀刻工艺的波动范围数据和沉金工艺的波动范围数据； 根据所述电路板设计参数，进行参数优化操作得到优化参数，根据所述优化参数建立初始阻抗模型； 根据所述蚀刻工艺的波动范围数据和沉金工艺的波动范围数据，对所述初始阻抗模型中的介质层厚度和铜箔表面粗糙度进行参数调整，得到修正阻抗模型； 对所述修正阻抗模型进行误差补偿并计算出阻抗预测值，将所述阻抗预测值与实际阻抗值进行误差判断，得到初始阻抗预测值； 基于梯度下降优化算法，对所述初始阻抗预测值进行迭代补偿，条件判断得到优化阻抗预测值； 根据所述优化阻抗预测值和预设阻抗阈值，进行判断操作，得到最终阻抗预测值； 根据所述最终阻抗预测值，进行测试操作，并计算测试的滚动方差，将所述滚动方差与预设稳定性阈值进行比较判断，得到稳定性测试结果； 根据所述稳定性测试结果与预设条件，进行判断操作，生成最终的阻抗校准报告； 根据所述阻抗校准报告，对电路板生产工艺参数进行更新操作，生成新的电路板生产指导文件，完成电路板阻抗的校准。

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