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龙图腾网获悉合肥致真精密设备有限公司申请的专利一种电子束蒸发镀膜设备及其应用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119800292B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411891528.2，技术领域涉及：C23C14/30；该发明授权一种电子束蒸发镀膜设备及其应用方法是由程厚义;李炎;杜寅昌;李玉婷设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电子束蒸发镀膜设备及其应用方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电子束蒸发镀膜设备及其应用方法，包括蒸发腔室、电子枪系统、第一抽真空系统、加热台机构、样品台机构、离子源系统；样品台机构与加热台机构转动连接，样品台机构包括用于夹持基片的基片夹持部；离子源系统与蒸发腔室顶部连接，用于清洗基片；第一驱动系统用于驱动第一旋转轴旋转；第二驱动系统用于驱动第二旋转轴旋转，第二旋转轴带动加热台机构及样品台机构同步整体翻转；当样品台机构翻转使基片夹持部与离子源系统相对时，能够放置、清洗以及翻转基片。本发明能够进行翻转至特定角度，特殊倾角镀膜可以增加膜基之间的相互作用，提高结合力。本发明样品台机构能够进行翻转使基片正对离子源系统。

本发明授权一种电子束蒸发镀膜设备及其应用方法在权利要求书中公布了：1.一种电子束蒸发镀膜设备，包括， 蒸发腔室，此蒸发腔室为基片37沉积薄膜提供空间； 电子枪系统，此电子枪系统与蒸发腔室底部连接，所述电子枪系统用于发射电子束，所述电子束用于撞击坩埚内材料并使材料蒸发，所述坩埚位于蒸发腔室内，且位于基片37下方； 第一抽真空系统，此第一抽真空系统与蒸发腔室一侧法兰连接，用于使蒸发腔室获得超真空环境； 其特征在于：还包括， 加热台机构，此加热台机构位于蒸发腔室内，所述加热台机构用于加热基片37； 样品台机构，此样品台机构与加热台机构转动连接，且位于加热台机构外侧，所述样品台机构包括用于夹持基片37的基片夹持部31； 离子源系统9，此离子源系统9与蒸发腔室顶部法兰连接，所述离子源系统9用于清洗基片37； 第一驱动系统1，此第一驱动系统1位于蒸发腔室外，用于驱动第一旋转轴11旋转，第一旋转轴11带动样品台机构绕基片夹持部31的中心轴旋转； 第二驱动系统2，此第二驱动系统2位于蒸发腔室外，用于驱动第二旋转轴21旋转，第二旋转轴21带动加热台机构及样品台机构同步整体翻转； 其中，当所述样品台机构翻转使基片夹持部31与离子源系统9相对时，能够放置、清洗以及翻转基片37； 设备还包括与蒸发腔室一侧法兰连接的材料输送系统，所述材料输送系统包括第四驱动系统7以及与第四驱动系统7连接的丝杆71；所述丝杆71与平移组件72螺纹连接，所述平移组件72与传样杆组件磁耦合； 所述第四驱动系统7驱动丝杆71旋转，所述丝杆71带动平移组件72连同传样杆组件沿导向轴74水平移动； 所述导向轴74远离第四驱动系统7的一端与位移台75的一侧固定连接，所述位移台75的另一侧与添加腔室76固定连接，所述添加腔室76远离位移台75的一端连接有插板阀77，所述添加腔室76通过插板阀77与蒸发腔室一侧法兰连接； 第二抽真空系统78设于所述添加腔室76的侧部，快开门79设于所述添加腔室76的顶部，所述快开门79用于打开和封闭添加腔室76内腔； 其中，所述位移台75包括用于供传样杆组件穿过的内腔，所述位移台75的内腔与添加腔室76贯通。

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