恭喜奥宝科技有限公司M·阿尔特曼获国家专利权
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龙图腾网恭喜奥宝科技有限公司申请的专利使用薄施体箔的LIFT印刷获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113767451B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080032698.9，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权使用薄施体箔的LIFT印刷是由M·阿尔特曼;Z·科特勒;I·佩莱德;O·叶尔马克;S·科恩设计研发完成，并于2020-05-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用薄施体箔的LIFT印刷在说明书摘要公布了：印刷设备包含施体供应组合件，其定位具有相对的第一及第二表面以及形成在所述第二表面上的施体膜的透明施体衬底，使得所述施体膜接近受体衬底上的目标区域。光学组合件引导激光辐射的一或多个光束穿过所述施体衬底的所述第一表面并照射所述施体膜，以便诱导材料从所述施体膜喷射到所述受体衬底上。提供用于减轻或补偿激光辐射跨所述施体衬底的区域的反射的变化的构件，以便使跨所述施体衬底的所述区域在所述施体膜中吸收的所述激光辐射的通量等化。
本发明授权使用薄施体箔的LIFT印刷在权利要求书中公布了：1.一种印刷设备，其包括： 施体供应组合件，其经配置以定位具有相对的第一表面及第二表面以及在所述第二表面上形成的施体膜的透明施体衬底，使得所述施体膜接近受体衬底上的目标区域； 光学组合件，其经配置以引导激光辐射的一或多个光束穿过所述施体衬底的所述第一表面并照射所述施体膜，以便诱导材料从所述施体膜喷射到所述受体衬底上； 监测组合件，其经配置以测量所述激光辐射跨所述施体衬底的区域的反射的变化；及 控制器，其经配置以响应于所述所测量的变化调整所述激光辐射的强度，以便使跨所述施体衬底的所述区域在所述施体膜中吸收的所述激光辐射的通量等化。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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