恭喜上海陛通半导体能源科技股份有限公司赵美英获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海陛通半导体能源科技股份有限公司申请的专利遮蔽组件及气相沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119876894B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510392373.6，技术领域涉及：C23C16/04；该发明授权遮蔽组件及气相沉积设备是由赵美英;封拥军;宋维聪设计研发完成，并于2025-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本遮蔽组件及气相沉积设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种遮蔽组件及气相沉积设备。遮蔽组件包括顶部支撑环及遮蔽环，顶部支撑环的内周面上间隔设置有多个水平向内延伸的凸台，仅部分凸台上设置有滑槽，该滑槽具有周向内锥面；所述遮蔽环的周面上设置有用于与晶圆上的notch上下对应的第一凸耳以及与顶部支撑环的凸台一一对应适配的第二凸耳，第一凸耳水平向内延伸，第二凸耳水平向外延伸，第一凸耳与其中一个第二凸耳位于同一径向上且对应该第二凸耳的凸台未设置有滑槽；遮蔽环上还间隔设置有多个向下延伸，用于与晶圆载盘的外周面适配的卡爪。本发明有助于确保安装时遮蔽环与顶部支撑环周向对中，径向对齐，从而保证晶圆载盘每次顶起遮蔽环时notch位置均在同一位置，有助于提高工艺良率。
本发明授权遮蔽组件及气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种遮蔽组件，其特征在于，所述遮蔽组件包括顶部支撑环及遮蔽环，所述顶部支撑环的内周面上间隔设置有多个水平向内延伸的凸台，仅部分凸台上设置有滑槽，该滑槽具有周向内锥面；所述遮蔽环的周面上设置有用于与晶圆上的notch上下对应的第一凸耳以及与顶部支撑环的凸台一一对应适配的第二凸耳，第一凸耳水平向内延伸，第二凸耳水平向外延伸，第一凸耳与其中一个第二凸耳位于同一径向上且对应该第二凸耳的凸台未设置有滑槽；遮蔽环上还间隔设置有多个向下延伸，用于与晶圆载盘的外周面适配的卡爪，卡爪设置在遮蔽环的设置有第二凸耳处的底面。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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