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龙图腾网获悉合肥致真精密设备有限公司申请的专利一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备及其工作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119710595B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411951939.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备及其工作方法是由程厚义;李诗意;杜寅昌;李玉婷设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备及其工作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备及其工作方法，涉及薄膜沉积技术领域，包括沿线性方向依次分布的进样腔体、放样腔体、隔离阀和工艺腔；所述进样腔体的内部安装有传输机械手，所述传输机械手用于驱动晶圆在放样腔体和工艺腔中传输移动；所述进样腔体上安装有用于对晶圆薄膜厚度动态检测的X荧光光谱仪；所述放样腔体配合传输机械手用于晶圆的存放；本发明配备可升降的样品台与角度可调的阴极靶头，灵活的机械结构，在得到光谱仪厚度数据的第一时间，判断与目标厚度的差距，并以此来自动调整阴极靶头角度，修正目标厚度；使得整个设备自动化程度高，提高了工作效率。

本发明授权一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备及其工作方法在权利要求书中公布了：1.一种集成X荧光光谱仪的磁控溅射镀膜设备，包括沿线性方向依次分布的进样腔体（1）、放样腔体（2）、隔离阀（7）和工艺腔（3），其特征在于， 所述进样腔体（1）的内部安装有传输机械手（4），所述传输机械手（4）用于驱动晶圆在放样腔体（2）和工艺腔（3）中传输移动；所述进样腔体（1）上安装有用于对晶圆薄膜厚度动态检测的X荧光光谱仪（6）； 所述放样腔体（2）配合传输机械手（4）用于晶圆的存放； 所述隔离阀（7）用于隔离放样腔体（2）与工艺腔（3）真空状态； 所述工艺腔（3）上设置有多个溅射阴极机构（8），所述溅射阴极机构（8）包括角度摆动机构以及角度摆动机构上设置的阴极靶头（82），所述角度摆动机构用于驱动阴极靶头（82）摆动； 所述工艺腔（3）的底部安装有样品架（9），所述样品架（9）用于调节晶圆与阴极靶头（82）之间的距离； 法兰座（811），所述法兰座（811）固定安装在工艺腔（3）壳体上； 伸缩轴（814），所述伸缩轴（814）贯穿法兰座（811），且沿着竖直方向运动； 推动杆（816），所述推动杆（816）倾斜设置，且所述推动杆（816）通过第一万向联轴器（815）与伸缩轴（814）连接； 支撑板（8110），所述支撑板（8110）的顶部安装有阴极靶头（82），所述支撑板（8110）内设置有用于驱动支撑板（8110）转动的销轴（8111），所述销轴（8111）由推动杆（816）驱动转动。

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