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龙图腾网恭喜长春理工大学中山研究院;中山吉联光电科技有限公司申请的专利超薄透明电磁屏蔽膜及制备方法、装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118979224B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411090162.9，技术领域涉及：C23C14/18；该发明授权超薄透明电磁屏蔽膜及制备方法、装置是由潘永刚;董所涛;王奔;林兆文;付秀华;王会会设计研发完成，并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本超薄透明电磁屏蔽膜及制备方法、装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种超薄透明电磁屏蔽膜及制备方法、装置，应用光学镀膜材料、电磁屏蔽膜以及真空镀膜技术领域，其中，以银材料和铝材料作为原料，在真空镀膜机内分别将银材料和铝材料向屏蔽膜基材共蒸发沉积，以得到包含银颗粒和铝颗粒的电磁屏蔽膜；银材料和铝材料通过隔板隔开各自向屏蔽膜基材共蒸发沉积，分别控制银材料在共蒸发沉积中的第一速率和控制铝材料在共蒸发沉积中的第二速率，使电磁屏蔽膜中的银颗粒含量占比和铝颗粒含量占比满足电磁屏蔽要求和透光率要求，以根据需要可以同时兼备高透过率和强屏蔽效果。

本发明授权超薄透明电磁屏蔽膜及制备方法、装置在权利要求书中公布了：1.一种超薄透明电磁屏蔽膜制备方法，其特征在于，包括：以银材料和铝材料作为原料，在真空镀膜机内分别将所述银材料和所述铝材料向屏蔽膜基材共蒸发沉积处理，以得到包含银颗粒和铝颗粒的电磁屏蔽膜；其中，所述银材料和所述铝材料以隔板隔开放置在所述真空镀膜机内部，使得所述银材料和所述铝材料在所述隔板隔开下各自向所述屏蔽膜基材共蒸发沉积； 在共蒸发沉积处理中，根据所述电磁屏蔽膜的电磁屏蔽要求和透光率要求，控制所述银材料在共蒸发沉积中的第一速率，以及控制所述铝材料在共蒸发沉积中的第二速率，使所述电磁屏蔽膜中的银颗粒含量占比和铝颗粒含量占比满足电磁屏蔽要求和透光率要求； 所述银材料在共蒸发沉积中蒸发形成所述银颗粒，所述铝材料在共蒸发沉积中蒸发形成所述铝颗粒； 通过修正挡板遮挡大部分所述银颗粒和大部分所述铝颗粒，使小部分所述银颗粒和小部分所述铝颗粒向所述屏蔽膜基材沉积，以使第一速率低于所述银材料的蒸发源处的蒸发速率，第二速率低于所述铝材料的蒸发源处的蒸发速率，实现银铝共蒸发沉积的精准监控； 所述修正挡板分为位于隔板所在板面两侧的导流板，两侧所述导流板朝隔板所在板面的方向上可斜向上分布，且两侧所述导流板之间形成间隙，形成的所述间隙位于所述隔板的上方，以使接触所述导流板的所述银颗粒和所述铝颗粒向形成的所述间隙流动。

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