鑫天虹(厦门)科技有限公司林俊成获国家专利权
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龙图腾网获悉鑫天虹(厦门)科技有限公司申请的专利电浆清洁装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114975052B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110215858.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权电浆清洁装置是由林俊成;郑耀璇;沈祐德设计研发完成，并于2021-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本电浆清洁装置在说明书摘要公布了：本发明是一种电浆清洁装置，包括腔体、射频电极、载台、电极、气体分散环与分隔环。所述气体分散环透过锁固件连接腔体，而分隔环低于气体分散环，其中分隔环与腔体围绕出分隔空间，而锁固件位于分隔空间。所述分隔环还与载台界定出反应空间，而锁固件被限制在反应空间之外。在电浆清洁装置的清洁过程中，氩离子撞击载台上的铝基板，而分隔环可遮蔽锁固件以防止部分溅镀出来的铝吸附在锁固件。
本发明授权电浆清洁装置在权利要求书中公布了：1.一种电浆清洁装置，其特征在于，所述电浆清洁装置包括： 一腔体，具有容置空间与腔体顶部； 一射频电极，连接所述腔体顶部； 一载台，位于所述容置空间内，并用以承载至少一基板； 一电极，连接所述载台； 气体分散环，透过至少一锁固件连接所述腔体，所述气体分散环具有复数气孔以供制程气体通入所述容置空间，其中所述气体分散环的表面受到粗化处理与非导电处理，使所述表面形成非平整面，以附着所述腔体的脏污；及 一分隔环，连接所述气体分散环，其中所述分隔环与所述载台界定出反应空间，而所述分隔环位于所述锁固件与所述反应空间之间，以将所述锁固件限制在所述反应空间之外，其中所述气体分散环的所述气孔位于所述反应空间； 其中所述分隔环还包括连接部、侧面与底部，所述连接部连接所述气体分散环，所述侧面连接所述连接部，所述底部连接所述侧面，而所述连接部与所述底部彼此相对，其中所述侧面用以阻挡自所述锁固件掉落的脏污掉落到所述基板的表面，而所述底部用以盛接所述脏污，其中所述底部的一端到所述腔体的侧壁之间具有第一距离，而所述锁固件到所述侧壁之间具有第二距离，其中所述第一距离小于所述第二距离。
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