东京毅力科创株式会社天野嘉文获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112242321B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010673489.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法是由天野嘉文;相浦一博;植木达博设计研发完成，并于2020-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本发明能够抑制颗粒的产生。
本发明授权处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法在权利要求书中公布了：1.一种释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴，其特征在于，包括： 喷嘴主体部，其具有：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与所述第1流路连通的第2流路，并相对于所述第1主体部弯曲的第2主体部； 角度改变机构，其相对于固定所述喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的所述喷嘴主体部的角度；以及 喷嘴释放部，其形成有与所述第2流路连通的释放流路，并能够将处理液释放到基片， 所述喷嘴释放部相对于所述第2主体部的前端可拆装，所述喷嘴释放部的内壁面与所述第1流路和所述第2流路的内壁面相比亲水性高，并且所述释放流路的直径比所述第2流路的直径小。
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