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龙图腾网获悉伊特克斯惰性气体系统(北京)有限公司申请的专利一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119506790B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411689814.0，技术领域涉及：C23C14/32；该发明授权一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置是由郭书周设计研发完成，并于2024-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置，涉及镀膜装置技术领域，包括支撑板，所述支撑板的上端设置有真空镀膜装置主体，所述真空镀膜装置主体的一侧设置有防护门；本设计的真空离子镀膜装置，在真空镀膜装置主体的内壁需要清理时，通过升降电机的输出端带动升降螺杆沿着螺纹孔的内部进行旋转，使得升降架带动旋转座下降，在下降过程中，使得旋转电机一的输出端带动旋转齿轮沿着齿槽的内部进行啮合，使得齿槽带动旋转座进行旋转，同时带动清理刷沿着真空镀膜装置主体的内壁进行旋转，从而对真空镀膜装置主体的内部进行旋转清理，无需人工手动进行真空镀膜装置主体内部的清刷，省时省力，提高清理效率。

本发明授权一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置，包括支撑板1，其特征在于，所述支撑板1的上端设置有真空镀膜装置主体2，所述真空镀膜装置主体2的一侧设置有防护门3，所述真空镀膜装置主体2和防护门3之间设置有门锁4，所述真空镀膜装置主体2的上端设置有真空泵5，所述真空镀膜装置主体2的外侧设置有电弧靶6和控制柜7，所述支撑板1的底部设置有底座8，所述真空镀膜装置主体2的内部设置有清理组件9和移动座10，所述移动座10的底部设置有滚轮11，所述移动座10与真空镀膜装置主体2之间设置有挂件旋转组件13，所述移动座10的上端设置有挂架12，所述移动座10与挂架12之间设置有挂架自旋转组件14； 所述清理组件9包括升降电机91，所述升降电机91的输出端连接有升降螺杆92，所述真空镀膜装置主体2的内部设置有升降架93，所述升降架93的中部设置有螺纹孔94，所述升降架93的上端设置有旋转座95，所述旋转座95的底部连接有滑块96，所述升降架93的外侧开设有滑槽97和齿槽99，所述升降架93的外出设置有清理刷98和安装架910，所述安装架910的外侧设置有旋转电机一911，所述旋转电机一911的输出端连接有旋转齿轮912。

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