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【发明公布】抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法_东京应化工业株式会社_201910573761.9 

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

申请日:2019-06-28

公开(公告)日:2020-01-10

公开(公告)号:CN110673438A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101)

优先权:["20180703 JP 2018-127151"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.06.25#实质审查的生效;2020.01.10#公开

摘要:本发明提供一种抗蚀剂组合物,特别是在将厚膜的抗蚀剂膜成膜而形成抗蚀剂图案的情况下,光刻特性优异且涂布性良好,能够抑制在高温烘烤时来自抗蚀剂图案的发泡。本发明的抗蚀剂组合物,含有:高分子化合物,具有以式a10‑1表示的结构单元以及包含酸分解性基团的结构单元;以式b1表示的产酸剂,抗蚀剂组合物中的固体成分浓度为30质量%以上。式a10‑1中,R为氢原子、烷基或卤代烷基,Yax1为单键或2价连接基团,Wax1为芳香族烃基,nax1是1~3的整数,式b中,R2011、R2021以及R2031分别独立地表示芳基,2个以上也可以相互键合而与式中的硫原子一起形成环,X‑表示反荷阴离子。

主权项:1.一种抗蚀剂组合物,其是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物,其特征在于,含有:高分子化合物A1,具有以下述通式a10-1表示的结构单元a10、以及包含极性因酸的作用而增大的酸分解性基团的结构单元a1;产酸剂B1,以下述通式b1表示,抗蚀剂组合物中的固体成分浓度为30质量%以上;【化1】 式中,R为氢原子、碳数1~5的烷基或碳数1~5的卤代烷基;Yax1为单键或2价连接基团;Wax1为nax1+1价的芳香族烃基;nax1是1~3的整数;R2011、R2021以及R2031分别独立地表示可具有取代基的芳基;R2011、R2021以及R2031中的2个以上也可以相互键合而与式中的硫原子一起形成环;X-表示反荷阴离子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京应化工业株式会社 抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

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